Bỏ qua điều hướng

Công nghệ giúp tăng độ bền chip nhớ

Công nghệ giúp tăng độ bền chip nhớ
Nguồn ảnh: VnExpress

Các nhà khoa học Trung Quốc phát hiện việc hạn chế sự dịch chuyển của lỗ trống nitơ trong vật liệu sắt điện cấu trúc wurtzite giúp tăng cường độ tin cậy của bộ nhớ thế hệ mới.

SCMP đưa tin nhóm nghiên cứu đến từ Đại học Khoa học Kỹ thuật Điện tử Tây An, Đại học Thành phố Hong Kong và Đại học Phúc Đán phát triển phương pháp giúp một loại chip nhớ mới trở nên bền vững hơn hẳn, mở ra tiềm năng sử dụng trong máy tính hiệu suất cao và các hệ thống trí tuệ nhân tạo tương lai khi sự bùng nổ AI thúc đẩy nhu cầu về vật liệu bán dẫn tiên tiến hơn. Họ mô tả chi tiết phương pháp trong bài báo đăng trên tạp chí Science hôm 10/9.

Nhóm nghiên cứu chứng minh vật liệu sắt điện cấu trúc wurtzite, loại vật liệu có khả năng chuyển đổi giữa hai trạng thái điện để lưu trữ dữ liệu, có thể trải qua hơn 10 tỷ chu kỳ ghi. Độ bền này cao gấp khoảng 100 lần so với mức đạt được trước đó, có thể thúc đẩy công nghệ bộ nhớ thế hệ mới. Đột phá trên hứa hẹn đưa bộ nhớ sắt điện tới gần ứng dụng thực tế trong phần cứng máy tính hơn. Đây là công nghệ bộ nhớ không bay hơi thử nghiệm, lưu trữ thông tin thông qua hướng phân cực điện bên trong vật liệu sắt điện cấu trúc wurtzite.

Theo NeoTeo, trong những năm gần đây, vật liệu sắt điện cấu trúc wurtzite (nhóm vật liệu bán dẫn có cấu trúc tinh thể lục phương) như nhôm scandium nitride (AlScN) thu hút nhiều sự chú ý với tiềm năng trở thành vật liệu bộ nhớ thế hệ mới do tốc độ chuyển đổi nhanh và mức tiêu thụ năng lượng thấp. AlScN cũng tương thích với những quy trình sản xuất bán dẫn hiện có, có thể đơn giản hóa quá trình tích hợp vào các thiết bị bộ nhớ tương lai.

Tuy nhiên, vật liệu này vấp phải một hạn chế đáng kể là bị xuống cấp sau khi chuyển đổi điện nhiều lần. Thiết bị AlScN hiện tại thường hỏng hóc sau khoảng 100 triệu chu kỳ ghi, kém xa so với yêu cầu hàng tỷ chu kỳ ghi của ứng dụng thương mại.

Các nhà nghiên cứu xác định sự tích tụ lỗ trống nitơ (những điểm thiếu nguyên tử nitơ) là lý do chính dẫn tới tỷ lệ hỏng hóc tương đối nhanh của chip nhớ sắt điện. Wang Ruiqing, nghiên cứu sinh tiến sĩ tại Đại học Khoa học Kỹ thuật Điện tử Tây An, một trong những tác giả của bài báo, giải thích: "Hãy tưởng tượng vật liệu sắt điện giống như một cánh đồng ngô được trồng gọn gàng, và lỗ trống nitơ đại diện cho chỗ thiếu cây giống". Các lỗ trống nitơ có thể di chuyển và tụ lại với nhau, cuối cùng hình thành đường dẫn qua vật liệu khiến điện rò rỉ và dẫn đến hỏng hóc.

Quá trình phân tích trực tiếp đặc tính của vật liệu AlScN trên tấm wafer. Ảnh: Viện Vật lý Thể rắn Ứng dụng Fraunhofer IAF

Quá trình phân tích trực tiếp đặc tính của vật liệu AlScN trên tấm wafer. Ảnh: Viện Vật lý Thể rắn Ứng dụng Fraunhofer IAF

Nhóm nghiên cứu giải quyết vấn đề bằng cách thiết kế cấu trúc nhiều lớp để hạn chế lỗ trống nitơ di chuyển và tích tụ, qua đó làm chậm đáng kể tốc độ xuống cấp của vật liệu và đạt hơn 10 tỷ chu kỳ ghi.

Dù đang ở giai đoạn thí nghiệm, phương pháp mới có thể mở đường cho sản xuất vật liệu sắt điện bền hơn nhằm tạo ra chip nhớ mật độ cao và tiêu thụ ít năng lượng. Theo Tech Radar, nếu thành công, bộ nhớ truy cập ngẫu nhiên (RAM) và lưu trữ dựa trên AlScN có thể trở thành trụ cột của các cụm máy chủ trong tương lai và cung cấp nền tảng cho việc áp dụng rộng rãi hơn mô hình ngôn ngữ lớn và trí tuệ nhân tạo.

An Khang tổng hợp

Một nhóm nghiên cứu từ Đại học Khoa học Kỹ thuật Điện tử Tây An, Đại học Thành phố Hong Kong và Đại học Phúc Đán vừa công bố phương pháp kéo dài đáng kể tuổi thọ của chip nhớ sắt điện. Theo VnExpress dẫn các nguồn SCMP, NeoTeo và Tech Radar, kết quả này có thể hỗ trợ sự phát triển của máy tính hiệu suất cao cùng những hệ thống trí tuệ nhân tạo trong tương lai. Nghiên cứu được trình bày trên tạp chí Science ngày 10/9, trong bối cảnh nhu cầu vật liệu bán dẫn tiên tiến tăng nhanh theo sự bùng nổ của AI. Điểm nổi bật nằm ở khả năng giúp vật liệu sắt điện cấu trúc wurtzite chịu được hơn 10 tỷ chu kỳ ghi dữ liệu. Con số này cao khoảng 100 lần mức đạt được trước đó, qua đó đưa công nghệ bộ nhớ thế hệ mới tiến gần hơn tới các ứng dụng phần cứng thực tế. Nếu tiếp tục chứng minh được độ ổn định trong những thử nghiệm quy mô lớn, phương pháp này có thể tạo nền tảng cho chip nhớ bền hơn, mật độ cao hơn và tiết kiệm năng lượng hơn. Bộ nhớ sắt điện là một dạng bộ nhớ không bay hơi thử nghiệm, lưu thông tin nhờ hướng phân cực điện bên trong vật liệu thay vì chỉ dựa vào nguồn điện liên tục. Cấu trúc wurtzite thuộc nhóm tinh thể lục phương, trong đó những vật liệu như nhôm scandium nitride, thường viết là AlScN, đang nhận nhiều sự quan tâm từ giới nghiên cứu bán dẫn. AlScN có tốc độ chuyển đổi nhanh, tiêu thụ ít năng lượng và tương thích với các quy trình sản xuất hiện nay, giúp việc tích hợp vào thiết bị tương lai thuận lợi hơn. Tuy nhiên, AlScN vẫn đối mặt nhược điểm lớn vì vật liệu nhanh xuống cấp sau nhiều lần chuyển đổi trạng thái điện liên tiếp. Các thiết bị hiện tại thường hỏng sau khoảng 100 triệu chu kỳ ghi, thấp hơn rất xa yêu cầu lên tới hàng tỷ chu kỳ của những sản phẩm thương mại. Khoảng cách lớn giữa khả năng trong phòng thí nghiệm và tiêu chuẩn sử dụng thực tế từng khiến triển vọng của loại bộ nhớ này bị hạn chế. Nhóm nghiên cứu xác định sự tích tụ lỗ trống nitơ, tức những vị trí bị thiếu nguyên tử nitơ trong vật liệu, là nguyên nhân chính làm chip suy giảm nhanh. Wang Ruiqing, nghiên cứu sinh tiến sĩ tại Đại học Khoa học Kỹ thuật Điện tử Tây An và là một tác giả bài báo, ví vật liệu như cánh đồng ngô trồng ngay ngắn. Trong cách hình dung đó, mỗi lỗ trống nitơ giống một chỗ thiếu cây, ban đầu có vẻ nhỏ nhưng dần gây ảnh hưởng tới toàn bộ cấu trúc. Các lỗ trống nitơ không đứng yên mà có thể di chuyển trong vật liệu, sau đó tập hợp thành những vùng khuyết tật ngày càng lớn. Khi liên kết với nhau, chúng hình thành đường dẫn cho dòng điện rò qua vật liệu, làm suy yếu khả năng lưu trữ và cuối cùng khiến thiết bị hỏng. Vì vậy, việc kiểm soát chuyển động cùng sự tích tụ của những lỗ trống này trở thành chìa khóa để cải thiện độ bền chip nhớ. Để xử lý vấn đề, các nhà khoa học thiết kế cấu trúc nhiều lớp nhằm cản trở lỗ trống nitơ di chuyển và ngăn chúng tập trung tại một khu vực. Cách tiếp cận này làm chậm đáng kể quá trình xuống cấp của AlScN, giúp thiết bị vượt mốc 10 tỷ chu kỳ ghi trong thử nghiệm. Quá trình phân tích đặc tính vật liệu cũng được thực hiện trực tiếp trên tấm wafer, cho phép nhóm đánh giá rõ hơn hành vi của cấu trúc trong điều kiện gần sản xuất. Kết quả hiện vẫn thuộc giai đoạn thí nghiệm, chưa đồng nghĩa công nghệ đã sẵn sàng xuất hiện rộng rãi trong các thiết bị thương mại. Dù vậy, thành tựu này mở ra hướng chế tạo bộ nhớ sắt điện bền hơn, phục vụ chip dung lượng lớn, hệ thống tính toán hiệu suất cao và các ứng dụng AI. Theo Tech Radar được VnExpress dẫn lại, RAM cùng bộ lưu trữ dựa trên AlScN, nếu phát triển thành công, có thể trở thành nền tảng cho cụm máy chủ tương lai và hỗ trợ mô hình ngôn ngữ lớn.